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MOSFET和三極管ON狀態(tài)有什么區別?
文章來(lái)源: 更新時(shí)間:2016/5/16 11:32:00
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MOSFET和三極管,在ON 狀態(tài)時(shí),MOSFET通常用Rds,三極管通常用飽和Vce。那么是否存在能夠反過(guò)來(lái)的情況,三極管用飽和Rce,而MOSFET用飽和Vds呢?

三極管ON狀態(tài)時(shí)工作于飽和區,導通電流Ice主要由Ib與Vce決定,由于三極管的基極驅動(dòng)電流Ib一般不能保持恒定,因而Ice就不能簡(jiǎn)單的僅 由Vce來(lái)決定,即不能采用飽和Rce來(lái)表示(因Rce會(huì )變化)。由于飽和狀態(tài)下Vce較小,所以三極管一般用飽和Vce表示。

MOS管在ON狀態(tài)時(shí)工作于線(xiàn)性區(相當于三極管的飽和區),與三極管相似,電流Ids由Vgs和Vds決定,但MOS管的驅動(dòng)電壓Vgs一般可保持不變,因而Ids可僅受Vds影響,即在Vgs固定的情況下,導通阻抗Rds基本保持不變,所以MOS管采用Rds方式。

電流可以雙向流過(guò) MOSFET的D和S ,正是MOSFET這個(gè)突出的優(yōu)點(diǎn),讓同步整流中沒(méi)有DCM的概念,能量可以從輸入傳遞到輸出,也可以從輸出返還給輸入。能實(shí)現能量雙向流動(dòng)。

接下來(lái)我們往深入一點(diǎn)來(lái)進(jìn)行討論,第一點(diǎn)、MOS的D和S既然可以互換,那為什么又定義DS呢?

對于IC內部的MOS管,制造時(shí)肯定是完全對稱(chēng)的,定義D和S的目的是為了討論電流流向和計算的時(shí)候方便。

第二點(diǎn)、既然定義D和S,它們到底有何區別呢?

對于功率MOS,有時(shí)候會(huì )因為特殊的應用,比如耐壓或者別的目的,在NMOS的D端做一個(gè)輕摻雜區耐壓,此時(shí)D,S會(huì )有不同。

第三點(diǎn)、D和S互換之后,MOS表現出來(lái)的特性,跟原來(lái)有何不同呢?比如Vth、彌勒效應、寄生電容、導通電阻、擊穿電壓Vds。

DS互換后,當Vgs=0時(shí),只要Vds>0.7V管子也可以導通,而換之前不能。當Vgs>Vth時(shí),反型層溝道已形成,互換后兩者特性相同。

D和S的確定

我們只是說(shuō)電流可以從D--to--S ,也可以從S----to---D。但是并不意味著(zhù):D和S 這兩個(gè)端子的名字可以互換。

DS溝道的寬度是靠GS電壓控制的。當G固定了,誰(shuí)是S就唯一確定了。

如果將上面確定為S端的,認為是D。

將原來(lái)是D的認為是S ,并且給G和這個(gè)S施加電壓,結果溝道并不變化,仍然是關(guān)閉的。

當Vgs沒(méi)有到達Vth之前,通過(guò)驅動(dòng)電阻R對Cgs充電,這個(gè)階段的模型就是簡(jiǎn)單的RC充電過(guò)程。

當Vgs充到Vth之后,DS導電溝道開(kāi)始開(kāi)啟,Vd開(kāi)始劇烈下降。按照I=C*dV/dt ,寄生電容Cgd有電流流過(guò) 方向:G -->D 。按照G接點(diǎn)KCL Igd電流將分流IR,大部分驅動(dòng)電流轉向Igd,留下小部分繼續流到Cgs。因此,Vgs出現較平坦變化的一小段。這就是miler平臺。

 
 
 
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